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PRODUCTS CNTER高含量電廠阻垢劑。貯于室內陰涼通風處,防潮,貯存期十個月。HEDP為酸性,應避免與眼睛、皮膚接觸,一旦濺到身上,應立即用大量水沖洗。乙二胺四甲叉膦酸鈉 EDTMPSEthylene Diamine Tetra (Methylene Phosphonic Acid) Sodium別名:乙二胺四亞甲基膦酸鈉、乙二胺四亞甲基磷酸、乙二胺四甲叉磷酸CAS No. 1429-50-1分子式 C6
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。貯于室內陰涼通風處,防潮,貯存期十個月。
HEDP為酸性,應避免與眼睛、皮膚接觸,一旦濺到身上,應立即用大量水沖洗。
乙二胺四甲叉膦酸鈉 EDTMPS
Ethylene Diamine Tetra (Methylene Phosphonic Acid) Sodium
別名:乙二胺四亞甲基膦酸鈉、乙二胺四亞甲基磷酸、乙二胺四甲叉磷酸
CAS No. 1429-50-1
分子式 C6H12O12N2P4Na8 相
高含量電廠阻垢劑
垢的作用。ATMP在紡織印染等行業用作金屬離子螯合劑,也可用于金屬表面處理劑等。 ATMP固體為結晶性粉末,易溶于水,易吸潮,易于運輸和使用,尤其適用于冬季嚴寒地區。由于純度較高,可用作紡織印染行業的金屬螯合劑及金屬表面處理劑。
羥基乙叉二膦酸 HEDP
HEDP是一種有機磷酸類阻垢緩蝕劑,能與鐵、銅、鋅等多種金屬離子形成穩定的絡合物,能溶解金屬表面的氧化物。HEDP在250℃下仍能起到良好的緩蝕阻垢作用,在高pH值下仍很穩定,不易水解,一般光熱條件下不易分解。耐酸堿性、耐氯氧化性能較其它有機磷酸(鹽)好。HEDP可與水中金屬離子,尤其是鈣離子形成六圓環螯合物,因而HEDP具較好的阻垢效果并具明顯的溶限效應,當和其它水處理劑復合使用時,表現出理想的協同效應。
HEDP固體屬于高純產品,適用于冬季嚴寒地區;特別適用于電子行業的清洗劑和日用化學品添加劑
分子質量:612.13
EDTMPS是含氮有機多元膦酸,屬陰極型